上周，小編就《權(quán)利要求書的撰寫方法及技巧》這一主題做了一場線上直播，非常開心這場直播得到了許多朋友的關(guān)注和觀看，同時，也有朋友留言線上獲取的PPT課件沒有直播講解的內(nèi)容全面，為此，小編今天就將直播課件的內(nèi)容整理成word版分享給大家。

好了，廢話不多講，直接上干貨：

（一）權(quán)利要求書概述

1.1 權(quán)利要求書作用

權(quán)利要求書作為專利申請文件的核心，具有哪些作用呢? 主要有3個作用：

①確定申請人請求專利保護范圍的法律確權(quán)文件；

②判定他人是否侵權(quán)的依據(jù)；

③概述發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷?strong>技術(shù)方案實質(zhì)內(nèi)容。

1.2 權(quán)利要求書布局方式

權(quán)利要求書應(yīng)包括至少1個獨權(quán)，在此基礎(chǔ)上還可以設(shè)置從權(quán)（也可以不設(shè)從權(quán)），其中：

獨權(quán)的保護范圍最大，承擔(dān)核心發(fā)明點，針對背景技術(shù)里面的主要技術(shù)問題提供主要技術(shù)方案；

從權(quán)引用獨權(quán)，對獨權(quán)的技術(shù)方案進一步限定，包括兩種引用方式：

遞進式局部縱向限定：對獨權(quán)中技術(shù)特征（形狀/位置/連接關(guān)系等）進一步限定，實現(xiàn)較優(yōu)方案，起到新的技術(shù)效果；其撰寫表述為：“根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種……，其特征在于，所述……”；

并列式整體橫向限定：通過追加新的技術(shù)特征，對獨權(quán)1技術(shù)方案進一步完善，起到新的技術(shù)效果；其撰寫表述為：“根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種……，其特征在于，還包括……”。

 （二）獨立權(quán)利要求的撰寫

2.1獨立權(quán)利要求撰寫原則

依據(jù)審查時的法條、法規(guī)，歸納總結(jié)的獨立權(quán)利要求撰寫原則主要為4個：不缺必特；不含非必特；清楚、簡要；合理上位。

這里的“必特”也就是大家所熟知的“必要技術(shù)特征”，該術(shù)語是針對獨權(quán)而言，是為解決其技術(shù)問題所不可缺少的技術(shù)特征，其總和足以構(gòu)成區(qū)別于現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)方案，并體現(xiàn)技術(shù)方案的完整性。

需要額外注意的是，明確技術(shù)問題是明確必要技術(shù)特征的前提和極為重要的一個步驟，而技術(shù)問題一般不能直接由交底確定，往往需要結(jié)合檢索文件比對分析進一步明確，明確后的技術(shù)問題方能寫入背景技術(shù)中，并據(jù)此進行權(quán)利要求的撰寫。

那么技術(shù)問題該如何結(jié)合檢索分析來明確呢？

首先需要分析技術(shù)問題是否被公開；

若被公開，則進一步考慮技術(shù)手段是被公開：

若技術(shù)問題和技術(shù)手段有一個未被公開，則技術(shù)方案有新創(chuàng)性，技術(shù)問題不作調(diào)整；

若技術(shù)問題和技術(shù)手段均被公開，則技術(shù)方案無新創(chuàng)性，需考慮新增或調(diào)整為其他技術(shù)特征，并根據(jù)其他技術(shù)特征帶來的技術(shù)效果對應(yīng)調(diào)整技術(shù)問題。

具體如下圖所示：

2.2獨立權(quán)利要求的撰寫過程

關(guān)于這部分內(nèi)容，我們在直播中結(jié)合撰寫案例，詳細分析了獨立權(quán)利要求撰寫的具體步驟和撰寫過程，總結(jié)起來，大致如下面流程圖所示。

2.3如何判斷獨立權(quán)利要求的保護范圍是否合理、適當？

獨立權(quán)利要求的保護范圍并非越大越好，獨權(quán)的保護范圍追求過大擴大或上位化，有可能導(dǎo)致其技術(shù)特征淪為常規(guī)技術(shù)手段而缺乏新創(chuàng)性，但是，也不能為了追求授權(quán)而限定成較小的保護范圍，這樣會導(dǎo)致獨權(quán)的技術(shù)方案過于具體，容易被競爭對手規(guī)避，起不到保護的作用。

因此，獨權(quán)的撰寫尤其考驗代理人的撰寫能力，不同的代理人根據(jù)同一個技術(shù)交底書所寫出的獨權(quán)往往各不相同，甚至差異較大，這與代理人的知識儲備、技術(shù)理解能力、檢索分析能力以及溝通交流能力等不無關(guān)系。

故，對于如何判斷獨立權(quán)利要求的保護范圍是否合理、適當，很難有一個明確的量化標準，但是，獨權(quán)最后能夠?qū)懙绞裁闯潭?、保護范圍能夠設(shè)置到什么樣的范圍，具體而言，主要有下述幾個方面的因素影響：

（1）技術(shù)交底書的書面理解程度：

在撰寫時，代理人需要通過交底的字面描述，深入理解技術(shù)方案的工作過程，避免出現(xiàn)不理解工作過程而僅從交底書的字面意思上理解核心發(fā)明點的情況，因為這種情況下，很有可能導(dǎo)致必要技術(shù)特征認定錯誤，尤其對于負復(fù)雜技術(shù)方案的撰寫更是如此；

（2）檢索的現(xiàn)有技術(shù)分析比對程度：

檢索的現(xiàn)有技術(shù)文件一定程度上決定了技術(shù)問題的認定是否正確、以及對應(yīng)的核心技術(shù)特征認定是否準確；

（3）檢索的深入程度：

有時候，在撰寫過程中并非一次與現(xiàn)有技術(shù)的比對分析就能明確核心技術(shù)特征，還會存在判斷結(jié)果模棱兩可、飄忽不定的情況。這時，可能還需要針某些技術(shù)特征做一個有針對性地、更深入、更精細的補充檢索，通過“檢索——比對分析核心技術(shù)特征——補充檢索——分析調(diào)整核心技術(shù)特征”這樣的多次反復(fù)理解、檢索和調(diào)整的過程，最終確定自認為合理、適當?shù)谋匾夹g(shù)特征；

（4）和發(fā)明人溝通、對技術(shù)方案的溝通理解程度：

如果僅僅依靠自己的理解和補充檢索依然無法確認核心技術(shù)特征，這時，可求助于發(fā)明人，通過與發(fā)明人溝通，進一步明確核心技術(shù)特征是什么。

2.4 獨權(quán)撰寫缺陷對授權(quán)文本的影響

獨權(quán)撰寫缺陷及其影響主要包括：

缺必特：

無效理由的法條之一，屬于專利法實施細則R23.2 (舊則R20.2)；

含非必特：

導(dǎo)致保護范圍小，容易被規(guī)避，不利于維權(quán)（因為侵權(quán)判定原則為全面覆蓋原則）；

不清楚：

無效理由的法條之一，屬于專利法A26.4 ；同時，不清除會導(dǎo)致技術(shù)特征的解釋不清楚，最終導(dǎo)致保護范圍不清楚，從而影響侵權(quán)認定；

未上位概況：

技術(shù)方案為過于具體的實施方式，導(dǎo)致保護范圍小，容易被規(guī)避，不利于維權(quán)。

關(guān)于這部分內(nèi)容，我們在直播課程中結(jié)合了無效和侵權(quán)案例進行了詳細講述，由于篇幅限制，這里就不再做展開說明，感興趣的朋友可以觀看我們的直播回放內(nèi)容。

2.5 獨權(quán)撰寫缺陷修改自查方式

在撰寫完成獨權(quán)后，我們可針對上述四個獨權(quán)撰寫缺陷，分別自提四個問題，進行獨權(quán)的進一步自查、完善：

①缺必特：獨權(quán)的技術(shù)特征是否能夠解決其技術(shù)問題？是否遺漏了某一技術(shù)特征而無法解決該技術(shù)問題？

②含非必特：分析獨權(quán)的每一個技術(shù)特征，查看是否能刪除該技術(shù)特征而不影響技術(shù)問題的解決？

③不清楚：獨權(quán)的每個技術(shù)特征表述是否存在歧義、語義不明等導(dǎo)致的不清楚？是否簡要、明了？

④未上位概況：分析獨權(quán)每一個技術(shù)特征，是否能夠進一步上位、擴大保護范圍？

（三）從屬權(quán)利要求的撰寫

3.1從屬權(quán)利要求撰寫原則

從屬權(quán)利要求撰寫原則主要為3個：清楚、簡要；合理上位；正確引用。

從屬權(quán)利要求的前兩個撰寫原則同獨權(quán)，對于正確引用，其引用條件包括：

3.2從屬權(quán)利要求的作用

前面在介紹權(quán)利要求書的布局方式時提到，從權(quán)并非必須設(shè)有，獨權(quán)必須設(shè)有且保護范圍最大，在此基礎(chǔ)上，為什么還要設(shè)置從權(quán)？從權(quán)有何作用？答案是：

從權(quán)通過層層設(shè)防，步步為營，構(gòu)建多層次的保護范圍，作用有二：

其一：有利于提高審查授權(quán)前景（當獨權(quán)審查無新創(chuàng)性后，可合并從權(quán)）；

其二：有利于提高專利權(quán)穩(wěn)定性，從權(quán)通過引用增加了技術(shù)方案的數(shù)量和復(fù)雜程度，對于無效而言，需要檢索大量證據(jù)、增加了無效難度，對于侵權(quán)而言，從權(quán)起到解釋侵權(quán)場景、明確保護范圍的作用。

關(guān)于這部分內(nèi)容，我們在直播間同樣列舉了一些案例，感興趣的朋友可以移步直播間觀看回放。

（四）權(quán)利要求書撰寫技巧總結(jié)

關(guān)于這部分內(nèi)容，為前面內(nèi)容的技巧總結(jié)，我們這里直接放圖：

4.1 權(quán)利要求書整體布局原則：

4.2 權(quán)利要求書整體撰寫原則：

  4.3 獨權(quán)和從權(quán)共有的撰寫原則講解：

以上就是我們直播的全部內(nèi)容總結(jié)，想觀看本次直播詳細講解內(nèi)容的朋友，可通過掃描下方二維碼回復(fù)數(shù)字“2414”，進入我們的直播間觀看案例內(nèi)容詳解回放。

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