2021年05月25日,上海芬華創(chuàng)新中心有限公司作為請(qǐng)求人對(duì)涉案專利ZL202021487098.5提起了無效請(qǐng)求,2021年12月31日,國知局宣告ZL202021487098.5實(shí)用新型專利權(quán)全部無效。
ZL202021487098.5因權(quán)利要求1-8不具備必要技術(shù)特征,不符合專利法第20條第2款的規(guī)定被宣告無效。
因創(chuàng)造性被宣告無效,主要是因?yàn)槠浼夹g(shù)。而因不具備必要技術(shù)特征被宣告無效,主要是因?yàn)閷@夹g(shù)撰寫人沒有識(shí)別出必要技術(shù)特征,從而造成的撰寫瑕疵導(dǎo)致的。
通常,專利權(quán)方委托代理機(jī)構(gòu)撰寫專利文本時(shí),要求撰寫代理人的專業(yè)與申請(qǐng)人方的專利技術(shù)領(lǐng)域相同或相近,從而能夠快速理解并撰寫出質(zhì)量高的專利申請(qǐng)文件。
專利文件的撰寫質(zhì)量,對(duì)于專利權(quán)的保護(hù)至關(guān)重要,其中衡量專利文件的撰寫質(zhì)量之一是專利的獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍包含全部必要技術(shù)特征,卻不包含非必要技術(shù)特征。
獨(dú)權(quán)的保護(hù)范圍內(nèi)包含的全部必要技術(shù)特征,是解決核心技術(shù)問題必不可少的技術(shù)特征。缺乏任一必要技術(shù)特征,技術(shù)問題則無法解決。必要技術(shù)特征勢(shì)必要寫入獨(dú)立權(quán)利要求,以保證獨(dú)立權(quán)利要求所記載的方案是一個(gè)清楚完整的技術(shù)方案,且能夠解決核心技術(shù)問題。
下面主要以涉案專利名稱為“一種多極化MIMO天線”(專利號(hào):ZL202021487098 .5)的分析,說明識(shí)別必要技術(shù)特征,提升撰寫質(zhì)量的重要性。
案情聚焦
申請(qǐng)文件背景技術(shù)0003段部分記載的技術(shù)問題 :目前,在MIMO多天線的設(shè)計(jì)中,在極化維度上局限于正交極化和正負(fù)45 度極化的工作方式,為了更好的實(shí)現(xiàn)MIMO多天線的極化分集多址通信效果,對(duì)多極化MIMO天線工作和排布方式的研究具有重要的意義。
▼ 取得的技術(shù)效果:
說明書0014段記載“與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型通過合理排布雙極化天線和圓極化天線可實(shí)現(xiàn)多種極化方式,并且具備旋轉(zhuǎn)對(duì)稱特點(diǎn),各極化方式工作的互擾低,交叉極化小。另外,通過調(diào)節(jié)雙極化天線的排布方式,可進(jìn)一步優(yōu)化天線的交叉極化特性和天線之間的隔離度。本實(shí)用新型是一種結(jié)構(gòu)合理、互擾低、交叉極化小的多極化MIMO天線?!?/p>
從上述可知,本專利要解決的技術(shù)問題是解決目前在極化維度上的局限,從而更好的實(shí)現(xiàn)MIMO多天線的極化分集多址通信效果,為了解決該技術(shù)問題,采用的技術(shù)手段是研究多極化MIMO天線的工作和排布方式,通過合理排布雙極化天線和圓極化天線,從而實(shí)現(xiàn)多種極化方式。可見,雙極化天線和圓極化天線的合理排布是用于解決本專利的技術(shù)問題的關(guān)鍵。
▼ 必要技術(shù)特征的確認(rèn):
根據(jù)本專利說明書第0021-0038段的記載可知,本專利采用的雙極化天線和圓極化天線的排布方式是:所述圓極化天線位于多極化MIMO天線的中心,所述雙極化天線以圓極化天線為中心呈環(huán)形陣列分布,相鄰兩個(gè)雙極化天線的極化方向相差30度。正是通過雙極化天線和圓極化天線的這種排布方式,才得以解決本專利的技術(shù)問題。因此,“所述圓極化天線位于多極化MIMO天線的中心,所述雙極化天線以圓極化天線為中心呈環(huán)形陣列分布,相鄰兩個(gè)雙極化天線的極化方向相差30度”是解決本專利技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。
基于上述分析,涉案專利的技術(shù)方案中,本專利的獨(dú)立權(quán)利要求1未記載上述必要技術(shù)特征,不符合專利法實(shí)施細(xì)則第20條第2款的規(guī)定。在權(quán)利要求1不符合專利法實(shí)施細(xì)則第20條第2款的規(guī)定的情況下,雖然權(quán)利要求2記載的附加技術(shù)特征是“所述圓極化天線位于多極化MIMO天線的中心,所述雙極化天線以圓極化天線為中心呈環(huán)形陣列分布”,權(quán)利要求3記載的附加技術(shù)特征是“相鄰兩個(gè)雙極化天線的極化方向相差30度”,即權(quán)利要求2-8均未完整的包含上述必要技術(shù)特征,也不符合專利法實(shí)施細(xì)則第20條第2款的規(guī)定。
啟示與思考
上述實(shí)用新型專利權(quán)被無效,是缺少必要技術(shù)特征,權(quán)利要求1-8不包含必要技術(shù)特征,即不具有解決上述申請(qǐng)文件中核心技術(shù)問題的必不可少的技術(shù)特征。
撰寫階段不僅要避免非必要技術(shù)特征寫入專利獨(dú)權(quán)中,更重要的是,避免必要技術(shù)特征沒有寫入獨(dú)權(quán)中,從而使得專利被無效。
因此,識(shí)別必要技術(shù)特征是提升專利撰寫質(zhì)量的關(guān)鍵步驟。
也就是說專利權(quán)方在審查專利申請(qǐng)文件的保護(hù)范圍時(shí),不僅要審核獨(dú)權(quán)中不包含非必要技術(shù)特征,更重要的是要進(jìn)一步確認(rèn)必要技術(shù)特征記載在獨(dú)權(quán)中。
綜上,采用“從技術(shù)問題出發(fā),識(shí)別解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征”的思維模式,能夠撰寫出對(duì)發(fā)明點(diǎn)保護(hù)范圍合適的權(quán)利要求,獲得保護(hù)強(qiáng)度高和穩(wěn)定性的權(quán)利要求,提高專利的撰寫質(zhì)量,進(jìn)而為專利權(quán)人爭取最大的權(quán)利。
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